共同・受託研究実績
公開件数:16件
No. 共同・受託研究テーマ 研究期間 共同研究/受託研究 共同研究・
受託研究実施形態
1 ニッケル酸化物を活用した超高周波トンネルダイオードの作製:太陽光発電をめざして
2011-2011
受託研究
出資金による受託研究
2 高純度SiOxナノ粒子の電子デバイスへの応用研究
2009-2011
共同研究
企業からの受託研究
3 酸化亜鉛ナノロッドのグルコースおよびDNAバイオセンサーへの応用(日本学術振興会二国間共同事業)
2009-2010
共同研究
国際共同研究
4 高品位絶縁膜の低温形成技術の研究
2008-2008
共同研究
国内共同研究
5 SiOナノ粒子を用いたGaN上の高品位酸化膜の作製、及びSi上GaN-MOSFETの実現への検証(JST)
2006-2007
共同研究
出資金による受託研究
6 高周波ヘテロ接合バイポーラトランジスタに関する研究
2005-現在
共同研究
国際共同研究
7 SiOxナノ粒子及び薄膜の新機能に関する研究
2004-現在
共同研究
国内共同研究
8 SiOxナノ粒子蒸着膜の透明電極薄膜への応用
2004-2008
共同研究
国内共同研究
9 SiOx超微粒子の蒸着による低温シリコン酸化膜の作製
2003-現在
共同研究
国内共同研究
10 半導体ナノクリスタルの作製とバイオセンサーへの応用(日本学術振興会二国間共同事業)
2002-現在
共同研究
国際共同研究
11 SiOx超微粒子の蒸着による低温シリコン酸化膜の作製
2002-2006
共同研究
企業からの受託研究
12 ゲルマニウムナノ結晶の秩序化とナノクリスタルメモリーの作製
2002-2005

国際共同研究
13 レーザーダイオードの劣化の研究
2002-2002

企業からの受託研究
14 高効率多孔質シリコンヘテロフェースシリコン太陽電池の開発
2000-2004
受託研究
企業からの受託研究
15 SiOx超微粒子薄膜の低誘電率材料への応用
1999-2002
共同研究
国内共同研究
16 ナノ構造半導体デバイスに関する教育・研究交流
1999-2001

国際共同研究