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電気通信大学
国際教育センター
准教授
CHOO Cheow Keong
チュウ チャオキョン
Cheow Keong CHOO
Tel.042-443-5743
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学歴
電気通信大学 電気通信学部 電子工学科 1995/03 卒業
電気通信大学 電気通信学研究科 電子工学専攻 博士前期 1997/03 修了
電気通信大学 電気通信学研究科 電子工学専攻 博士後期 2000/03 修了
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学位
工学修士 電気通信大学 1997/03
工学博士 電気通信大学 2000/03
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免許・資格
労働安全衛生法: X線作業主任 2004/03/31
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学内担当授業科目
2022 環境工学 前期 学部(昼夜共通) 博士前期・後期課程共通
2022 日本の科学と技術A 前期 学部(昼夜共通)
2022 UEC Academic Skills I (Computer Literacy) 前期 学部(昼夜共通) 博士前期・後期課程共通
2022 UEC Academic Skills II (Information Literacy and Research) 前期 学部(昼夜共通) 博士前期・後期課程共通
2022 UEC Academic Skills III (Publishing Literacy and Research) 前期 学部(昼夜共通) 博士前期・後期課程共通
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現在の専門分野
応用物理学一般
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現在の研究課題
半導体ナノ微粒子に関する研究 シリコン 微粒子 ゼイオライト 2000-現在
アルカリ金属/半導体/酸素化合物に関する研究 アルカリ金属 シリコン 仕事関数 2002-現在
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論文
一般論文 有 Negatively Charged Subnanometer-Sized Silicon Clusters and their reversible migration into AF1 zealite pon Studied with X-ray Photoelectron Spectroscopy and ultraviolet Photoelectron Spectroscopy C-K. Choo, T. Sakamoto, K. Tanaka, R. Nakata, T. Asakawa Appl. Surf. Sci. 140/ 1-2, 126-137 1999
一般論文 有 Charaterization of nitrogen terminated Silicon nanoparticles of AF1 zeolite with X-ray and ultraviolet photoeletron Spectroscopies. C-K. Choo, T. Sakamoto, K. Tanaka, R. Nakata Appl. Surf. Sci. 148/ 1-2, 116-125 1999
一般論文 有 Oxygen containing silicon cluster on Teflon and their work funtions studied with X-ray photoelectron spectroscopy. K. Tanaka, T. Sakamoto, M. Tohara, C-K. Choo, R. Nakata Appl. Surf. Sci. 148/ 3-4, 215-222 1999
一般論文 有 Preparation and evaluation of nitrogen-terminated Silicon nanoparticles : laser annealing effect C-K. Choo, T. Sakamoto, M. Tohara, K. Tanaka, R. Nakata, N. Okuyama Surface Science 445/ 2-3, 480-487 2000
一般論文 有 Sm-doped CdWO_4_ thin films synthesized by pulsed laser deposition Katsumi Tanaka, Koh-ichi Ohga, Cheow-Keong Choo, Ryouhei Nakata J. Appl. Phys. 9/ 10, 5369-5375 2001
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研究発表
学会口頭発表 ゼオライトAlPO_4_-5を用いたSi超微粒子の作成と評価 第57回応用物理学会学術講演会 7a-PA-8 無 チュウ チャオキョン、田中 勝己、中田 良平 1997/09
学会口頭発表 アンモニアを用いた窒素終端Si超微粒子の作成と評価 第45回応用物理学関係連合講演会 29a-H-2 無 チュウ チャオキョン、坂本 隆、田中 勝己、中田 良平 1998/03
学会口頭発表 シリコン及び窒素終端シリコン微粒子のテフロン上への作製とその評価 第59回応用物理学会学術講演会 17p-ZF-1 無 坂本 隆、戸原 誠、チュウ チャオキョン、田中 勝己 1998/09
学会口頭発表 窒素終端Si微粒子の作成と評価:レーザーアニーリング効果 第46回応用物理学関係連合講演会 30a-C-6 無 チュウ チャオキョン、坂本 隆、田中 勝己、中田 良平 1999/03
学会口頭発表 光電子分光法を用いた窒素終端シリコン微粒子の状態分析 第60回応用物理学会学術講演会 3a-P5-16 無 戸原 誠、チュウ チャオキョン、佐藤 千嘉夫、田中 勝己 1999/09
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知的財産権
特許 ダイヤモンドライクカーボン膜の成膜装置および形成方法 特許2014-98357(P2014-98357) 2014/05/12 特開2014-237890(P2014-237890A) 2014/12/18 公開
特許 ダイヤモンドライクカーボン膜の形成方法およびダイヤモンドライクカーボン膜付き金属物 特願2011-160258 2011/07/21 特開2013-040400 2013/02/28 公開
特許 アナターゼ型酸化チタン微粒子及びアナターゼ型酸化チタン微粒子の製造方法 特開2007-210787 2007/08/13 特開2009-046317 2009/03/05 公開
特許 METAL WITH DIAMOND-LIKE CARBON FILM, AND METHOD FOR FORMING DIAMOND-LIKE CARBON FILM PCT/JP2012/065527 2012/06/18 WO2013/011784 2013/01/24 US2014/0193594A11 2014/07/10 EP2735624 2018/08/01 公開
特許 ダイヤモンドライクカーボン膜の形成方法 特許2012-087395 2012/04/06 特開2013-040400 2013/02/28 特許第5896463 2016/03/11 登録
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科学研究費助成事業
常圧炭化水素熱分解による金属上の機能性炭素材料作製と評価 基盤研究(C)一般 2012/04/01-2015/03/31 メタンとアルゴンの混合ガスを1気圧下で金属基板上に800~1100℃で反応させDLC薄膜を作製した。金属基板として、純度99.5%と99.99%の2種類の鉄と鋼材SCM440を用いた。表面生成物を顕微ラマン分光法、硬度測定、SEMによる膜厚測定から評価した。800℃で硬度900以上、膜厚3~6μmのDLC膜の合成に成功した。純度の低い鉄基板の場合、バルク中の酸素原子が表面に拡散し酸化鉄を生成する場合のある事が分かった。条件を変えることで純度の低い鉄基板の場合においてもDLC膜の合成が可能であった。DLC膜と金属基板の結合を強固にする界面層の構造についてラマン測定から解明する事を試みた。
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外部資金
(S2019F0528265)UEC-KMUTNB先進ものづくりを支える材料加工と生産技術の研究交流 その他助成金 受託事業:(研)科学技術振興機構(さくらサイエンスプラン) 2019/07/16-2020/03/16 本学の機械知能システム学専攻と国際教育センターが、本学ASEAN教育研究支援センター(在バンコク)の協力の下、KMUTNBの教員と協議し、招聘学生の専門とタイの企業のニーズに基づいて、下記の交流計画を策定して本取り組みを進めている。KMUTNB工学部材料生産工学科(機械、材料、生産分野)の成績上位10%学生の中から10名の学生を選考して招聘する。本学では、関連分野研究施設を訪問し、最先端の研究に直に触れると同時に教員からのレクチャーを受け、日本の優れた科学技術に対する理解と関心を高める。
(S2018F0531410)UEC-UTHM:持続可能未来社会の実現に向けたものづくり基盤技術 その他助成金 受託事業:(研)科学技術振興機構(さくらサイエンス) 2018/08/03-2019/03/15 本企画は、将来の科学技術研究を担う学生を招聘し、本学と日本の最先端研究の一端を紹介する。本学のハイレベルなものづくりに関するユニークな研究活動を実地体験してもらうと共に、日本人学生及び本学の留学生との交流の場を提供し、日本に対する理解を深め、また将来の日本留学への関心を高めてもらう。
(S2018F0531411)UEC-HEU先端材料化学分野における学術研究交流 その他助成金 受託事業:(研)科学技術振興機構(さくらサイエンス) 2018/07/20-2019/03/15 将来の科学技術研究を担う学生を招聘し、世界でも最先端といえる本学の先端材料化学研究を紹介する。本学のユニークかつハイレベルな研究活動を実地体験してもらうと共に、将来の両大学の教員、学生の人材交流や国際共同研究の発展を図る。
(S2016F1031002)UEC-HEU:先進フォトニックス・レーザー研究に関する学術研究交流 その他助成金 受託事業:(研)科学技術振興機構(さくらサイエンス) 2016/12/06-2017/03/15 将来の科学技術研究を担う学生を招聘し、世界でも最先端といえる本学の先端フォトニックス・レーザー研究を紹介する。本学のユニークかつハイレベルな研究活動を実地体験してもらうと共に、将来の両大学の教員、学生の人材交流や国際共同研究の発展を図る。
(S2016F0714045)UEC-UMS:持続可能未来社会の実現に向けた先端科学技術及びそれを支える基盤技術と環境(JSTさくらサイエンス) その他助成金 受託事業:(研)科学技術振興機構(さくらサイエンス) 2016/08/31-2017/03/31 将来の科学技術研究を担う学生を招聘し、本学の最先端研究の一端を紹介する。本学のユニークかつハイレベルな研究活動を実地体験してもらうと共に、日本人学生及び本学の留学生との交流の場を提供し、日本に対する理解を深め、また将来の日本留学への関心を高めてもらう。
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共同・受託研究実績
薄膜分析のFTIRによる分析と評価 2012-2012 受託研究 企業からの受託研究
触媒と炭化水素熱分解による低コスト/大気圧DLC装置の実用化 2009-2011 受託研究 出資金による受託研究
レーザーを用いた極薄膜酸化膜作成技術の研究 2003-2003 国内共同研究
冷カソードの表面処理の研究 2001-2002 国内共同研究
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公開講座・講演会等
健康合気道講座 電気通信大学公開講座 2010
健康合気道講座 電気通信大学公開講座 2009 電気通信大学武道場
健康合気道講座 電気通信大学公開講座 2008 電気通信大学武道場
健康合気道講座 電気通信大学公開講座 2007 電気通信大学武道場
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所属学協会
応用物理学会 1996-現在
シリコンテクノロジー分科会 1997-2012
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マスコミ取材
新聞 日経産業 硬質炭素膜、生成コスト1/3 (日経産業新聞) 2010/09/24
新聞 日経新聞 硬質炭素膜、生成コスト1/3(日経新聞) 2010/09/23
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学内委員会等
国費特別プログラム実施委員 委員 2021/06-現在
国際教育WG 委員 2020/11-現在
拡大MICH運営委員 委員 2019/12-2021/05
大学院 情報理工学研究科 教育委員 委員(オブザーバー) 2017/04-現在
国際科目小委員会委員 2016/01-現在
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